최근 국토교통 분야의 주요 연구성과 및 신기술 전시, 지식·학술·비즈포럼, 정책·연구개발 세미나 등 다양한 프로그램이 진행 된 「2019 국토교통기술대전」이 뜨거운 관심과 참여 속에 마무리 되었다. 그 중 전시는 총 면적 9,100㎡(≒2,800평)에서 205개의 기관 및 기업이 428개의 전시부스를 설치·운영했으며, 일반 관람객을 포함한, 산·학·연 관계자 및 정부·지자체·공사 등 14,000여 명이 참석했다고 한다.
전시회에 자신의 발명을 출품하는 발명자의 입장에서는 전시회 출품을 통해 자신이 보유한 기술을 홍보하고 싶은 마음과 혹시나 자신의 기술이 노출되어 보호받지 못하는 건 아닐까 하는 염려가 항상 공존한다. 특허법은 공지된 기술에 대해서는 특허권을 부여하지 않는다. 즉, 출원 전에 전시회 출품 등으로 발명이 공지되면 특허권을 받는 것은 불가능하기 때문이다.
그렇다면 전시회 출품은 항상 특허출원을 한 뒤에서야 가능하다는 말인가?
그렇지 않다. 특허법에는 특허출원 전에 전시회 출품 등으로 발명을 공개한 자를 보호하기 위해, 공지예외적용제도를 규정하고 있다. 말 그대로 공지되었지만 공지되지 않은 것으로 예외를 적용한다는 의미로, 전시회 출품 후 일정 기간 내에 출원하면서 소명을 한다면 전시회 출품 자체로 인해서 특허가 거절되는 일은 발생하지 않는다.
즉, 전시회 출품 등으로 공지된 발명에 대해 공지예외적용을 받기 위해서는 발명이 최초로 공지된 날로부터 12월 이내에 특허출원이 되어야 하고, 특허출원인은 그 특허 출원서에 취지를 기재하고 또 증명서류를 제출하여야 한다.
특허출원을 할 때 공지예외적용절차를 밟지 않았음에도 특허등록이 되었다면 안도의 한숨을 쉴 수 있을까?
그렇지 않다. 결국 그 특허권은 누군가 문제 삼으면 특허출원 전 발명의 공개로 인하여 신규성 및 진보성 위반으로 무효가 된다. 예전에는 출원 시에 반드시 공지예외주장을 해야했고, 출원시 이를 누락하면 출원 이후 공지예외주장이 허용되지 않아, 행여 특허등록이 되더라도 무효가능성이 상존할 수밖에 없었다.
지금은 출원 시에 공지예외주장을 누락했더라도, 나중에 출원중이면 뒤늦게라도 공지예외주장이 가능하다. 따라서, 공지예외주장 제도만 잘 활용하면 전시회 출품 이후라도 특허권 획득에 지장이 없다.
그러나, 해외출원까지 하게 되면 국가별로 다른 공지예외주장제도에 주의해야 한다.
해외출원 시 가장 먼저 고려되는 미국의 경우, 한국의 공지예외주장 제도와 매우 유사하다. 즉, 전시회 출품 시 한국출원뿐만 아니라 미국출원도 동일하게 전시회 출품일로부터 1년 이내에 이루어져야만 공지예외의 혜택을 받는 것이다.
최근 미국 다음으로 고려되는 해외출원 국가가 중국이다. 중국에도 공지예외주장과 유사한 제도가 있긴 하나, 그 인정 범위가 매우 협소하다. 중국은 중국정부가 주관하거나 승인한 국제전람회에서 최초로 전시한 경우만 공지예외주장이 가능하다. 더구나, 출원가능기간도 전시회 출품일로부터 6개월로 짧아 중국 내 전시회 출품하고 중국 내 출원을 하는 경우가 아니라면 시간에 더욱 쫓길 수밖에 없다.
유럽이나 일본은 공지예외주장이 인정되는 전시회 범위가 한국 및 미국보다는 좁고 중국보다는 넓다. 그러나, 중국과 마찬가지로 전시회 출품일로부터 6개월로 짧다.
해외 수출을 염두하고 있으며 해외 지재권을 확보해야 하는 경우라면 국가마다 전시회 출품에 따른 특허제도가 서로 다른 점을 숙지하고 전시회 출품 전에 수출국가를 미리 검토해 제때 특허출원을 하는 것이 매우 중요하다.
